Diagnostics Et Mod Lisation D Un Plasma D Argon Hydrog Ne Cr Par D Charge H F Inductive Utilis E Pour La Gravure De Silicium


Download Diagnostics Et Mod Lisation D Un Plasma D Argon Hydrog Ne Cr Par D Charge H F Inductive Utilis E Pour La Gravure De Silicium PDF/ePub or read online books in Mobi eBooks. Click Download or Read Online button to get Diagnostics Et Mod Lisation D Un Plasma D Argon Hydrog Ne Cr Par D Charge H F Inductive Utilis E Pour La Gravure De Silicium book now. This website allows unlimited access to, at the time of writing, more than 1.5 million titles, including hundreds of thousands of titles in various foreign languages.

Download

Diagnostics et modélisation d'un plasma d'argon-hydrogène créé par décharge H.F. inductive utilisée pour la gravure de silicium


Diagnostics et modélisation d'un plasma d'argon-hydrogène créé par décharge H.F. inductive utilisée pour la gravure de silicium

Author: Djamal Salah (auteur d'une thèse de sciences.)

language: fr

Publisher:

Release Date: 1985


DOWNLOAD





MODELE THEORIQUE DE LA DECHARGE BASE SUR UNE FONCTION DE DISTRIBUTION DES ELECTRONS A DEUX COMPOSANTES: UNE PREMIERE PARTIE MAXWELLIENNE POUR TOUS LES PHENOMENES FAISANT INTERVENIR LES ELECTRONS APPARTENANT A LA GAMME D'ENERGIE SITUES AUX ENVIRONS DE 1 EV ET UNE DEUXIEME PARTIE COMPOSEE D'ELECTRONS RAPIDES AUXQUELS ON A ATTRIBUE UNE ENERGIE DE 20 EV. LA PROPORTION D'ELECTRONS RAPIDES EST DE L'ORDRE DE 10%. DETERMINATION DU TAUX DE QUENCHING DES METASTABLES **(3)P::(2) DE L'ARGON PAR L'HYDROGENE ATOMIQUE DE L'ORDRE DE 7 10**(-9) CM**(3) S**(-1) A 2000**(O) K

Diagnostic Du Plasma Par Spectroscopie Optique


Diagnostic Du Plasma Par Spectroscopie Optique

Author: Mehdi Cheaib

language: en

Publisher:

Release Date: 1989


DOWNLOAD





L'ANALYSE ET L'ETUDE DE L'EVOLUTION TEMPORELLE DU SPECTRE D'EMISSION (120 A 800 NM) DE DIFFERENTS PLASMAS UTILISES POUR LA GRAVURE DES MATERIAUX EMPLOYES EN MICROELECTRONIQUE (SIO#2, SI#3N#4, RESINES, ...) A PERMIS DE DEFINIR DANS CHAQUE CAS UNE EMISSION CARACTERISTIQUE PROVENANT DES ELEMENTS CONTENUS DANS LA COUCHE GRAVEE. LA MODIFICATION DE L'INTENSITE DE CETTE EMISSION LORS DE LA TRANSITION D'UNE COUCHE A L'AUTRE SERT A LA DETECTION DE FIN D'ATTAQUE DE LA COUCHE CONSIDEREE. LES MECANISMES DE FORMATION DE L'EXCIMERE ARX* (X=F, CL) LORS DE LA REACTION D'UN DES ATOMES METASTABLES DE L'ARGON, SELECTIONNE PAR POMPAGE OPTIQUE LASER, AVEC DIFFERENTS COMPOSES HALOGENES ONT ETE ETUDIES. LES RESULTATS METTENT EN EVIDENCE UNE TENDANCE A LA CONSERVATION DU CUR IONIQUE DE L'ATOME D'ARGON DANS LA REACTION

DIAGNOSTIC ET MODELISATION DE LA DIFFUSION D'UN PLASMA D'ARGON DANS UN REACTEUR RADIOFREQUENCE A SOURCE HELICON


DIAGNOSTIC ET MODELISATION DE LA DIFFUSION D'UN PLASMA D'ARGON DANS UN REACTEUR RADIOFREQUENCE A SOURCE HELICON

Author: CHRISTINE.. CHARLES

language: fr

Publisher:

Release Date: 1990


DOWNLOAD





CETTE THESE DECRIT LA MODELISATION, A PARTIR D'UN DIAGNOSTIC EXPERIMENTAL, DE LA DIFFUSION D'UN PLASMA RF D'ARGON DE TYPE SOURCE HELICON DANS UN REACTEUR DE GRAVURE DE CIRCUITS INTEGRES. LE PLASMA EST DIAGNOSTIQUE PAR SONDES ELECTROSTATIQUES: SONDE DE LANGMUIR ET ANALYSEUR D'ENERGIE A GRILLES. L'ASSOCIATION DE CES DEUX SONDES EST UTILISEE POUR L'ETUDE SPATIALE DE LA DIFFUSION. L'INVESTIGATION EXPERIMENTALE DE LA DIFFUSION NOUS MENE A UN MODELE ANALYTIQUE UNIDIMENSIONNEL QUI EST DEVELOPPE DE FACON INTERACTIVE AVEC L'EXPERIENCE ET OPTIMAL PAR RAPPORT A L'INFORMATION DISPONIBLE. IL DONNE PRINCIPALEMENT LES VALEURS DE DENSITE, POTENTIELS PLASMAS ET FONCTIONS DE DISTRIBUTION EN ENERGIE DES IONS SUR L'AXE PRINCIPAL DU REACTEUR. UNE DES CONCLUSIONS IMPORTANTES EST QUE LA FONCTION DE DISTRIBUTION EN ENERGIE DES IONS EST, POUR LES PRESSIONS CONSIDEREES (QQ MTORR), ESSENTIELLEMENT CONDITIONNEE PAR LES MECANISMES D'ECHANGE DE CHARGES PAR COLLISIONS ENTRE LES IONS ET LES ATOMES NEUTRES D'ARGON DANS LE CHAMP ELECTRIQUE DEVELOPPE PAR LE PLASMA. LES LIMITES ET POTENTIALITES DU MODELE EN FONCTION DES PARAMETRES EXTERNES SONT DISCUTEES, AINSI QUE SON INTERET SUR LE PLAN DES APPLICATIONS GRAVURE ET DEPOT